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等离子体刻蚀 (RIE/ICP-RIE)

Corial 360IL是一种大面积等离子体蚀刻系统,可提供高吞吐量,而不会影响工艺性能或质量。

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等离子体增强CVD (ICP-CVD / PECVD)

Corial D350L基于 CORIAL 独特的反应器设计。

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匀胶显影设备

匀胶机有很多种称谓,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

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原子沉积设备

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半自动光刻机

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用;以的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

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全自动光刻机

MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机,是韩国第一家研发并商业化光罩对准曝光机的企业,始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

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  • 布鲁克 JV-QC3高分辨率 X射线衍射仪
  • 布鲁克 原子力显微镜 Dimension ICON
  • 布鲁克 Dektak XT 台阶仪
  • 布鲁克 ContourX-200 三维光学轮廓仪

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