Corial D350L 基于 CORIAL 独特的反应器设计。它在真空容器内装有一个等温加压反应器，这与带有加热基板支架的传统 PECVD 反应器不同。

Corial D350L 采用新一代气体喷头和对称泵送，可为各种应用提供出色的沉积均匀性。

Corial D350L 配备真空负载锁，还可保证稳定的工艺条件、较短的泵送周期和更高的吞吐量。

Corial D350L PECVD 系统可处理全 300 毫米晶圆或大批量产能 (27 x 2")，从而能够批量生产高质量薄膜。该 PECVD 工具解决的典型应用包括光电子钝化沉积、光子学硅氧化物沉积、由于反应器的对称设计，薄膜的应力控制得到简化和优化。

主要优点

• 优异的均匀性
  对基材和反应器壁进行精确、均匀的温度控制，提供出色的沉积重复性和均匀性
  加压、对称泵浦反应器可确保获得无针孔的高质量薄膜
• 薄膜性能的控制
  由于反应器的对称设计，薄膜应力控制很容易实现
  Corial D350L 加热系统可精确控制和优化折射率和湿化学蚀刻速率
• 增加正常运行时间
  Corial D350L 高温双泵配置可在工作温度下实现高效等离子清洗，且不会腐蚀机械部件
  多年运行无需手动清洁反应器和真空容器
  负载锁确保快速装载/卸载和较短的抽气时间
• 高沉积率
  Corial D350L 凭借其等温加压反应器，可在直径达 300 毫米的晶圆上快速沉积均匀的薄膜
  典型性能：SiO2：>500 nm/min；Si3N4：250纳米/分钟；SiOCH：150纳米/分钟；碳化硅：100纳米/分钟

等离子体化学气相沉积技术

等离子体增强 CVD 使用 13.56 MHz 的射频能量在两个平行电极之间产生、点燃和维持辉光放电（等离子体）。将前体气体混合物引入反应器中，并使用等离子体通过碰撞产生反应性和高能物质。

活性物质通过鞘扩散，吸附在基底表面上并与其相互作用，并在基底表面上形成一层材料。

然后反应副产物被泵送系统抽走，泵送系统通常由涡轮分子泵和干式低真空泵组成。