主要特点:

• 光源强度可控；
• 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
• 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
• 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
• 真空吸盘范围可调；
• ZG技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
• 双CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
• 特殊的基底卡盘可定做；
• 具有楔形补偿功能；