原子沉积设备

原子沉积设备

名称: 原子沉积设备
型号: Nexus Plaminar™系列
品牌: 韩国NexusBe

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产品详情

基于ALD原始核心技术的时空划分方法
“低温/精确控制和真空/非真空高产时空分割ALD”
“常压R2R和粉末ALD”
“用于功率半导体的混合ALD”
- 存储器和系统集成电路和电源：DRAM/NAND电容器、TSV、堆叠等。高阶覆盖率和Unif。，用于下一代功率半导体的无杂质层和GaOx外延。沉积
- 锂离子电池和能源：阴极材料、隔膜和钙钛矿太阳能电池等钝化层，以提高锂离子电池的充放电效率
- OLED和Flexible/AR/VR显示器：低温/精确成分控制钝化，如用于AR/VR的Flexible、Micro LED和Micro OLED，以及OLED下一代沟道层（氧化物半导体、IGZO）沉积
- 3D/2D＆粉末涂层：功能层和粉末涂层，如提高沉积和蚀刻室中喷头和其他部件的耐热性和耐腐蚀性，以及改性2D膜等表面性能